Hydrożelowa maska, która intensywnie nawilża skórę, wspomaga jej elastyczność, wzmacnia barierę ochronną i pomaga zwężać pory. Dzięki zawartości ultra-niskocząsteczkowego kolagenu, oligo-kwasu hialuronowego oraz trzech rodzajów probiotyków maska poprawia kondycję skóry, wygładza drobne linie oraz łagodzi zaczerwienienia. Hipoalergiczna formuła jest wolna od drażniących składników, dzięki czemu nadaje się również dla skóry wrażliwej.
Dane firmy
Katarzyna Dmitruk
Soft Oak Katarzyna Dmitruk
Borówkowa 32, 15-523 Grabówka
Nr konta: 23 1140 2004 0000 3602 8233 1541
NIP: 8621628348
REGON: 521746704
Jest 5 produktów.
Aktywne filtry
Hydrożelowa maska stworzona z myślą o intensywnym nawilżeniu oraz regeneracji naturalnej bariery ochronnej skóry. Dzięki technologii Hydro Ceranol, maska dostarcza ceramidów, które wspomagają odbudowę warstwy hydrolipidowej, przywracając skórze zdrowy wygląd, miękkość i naturalny blask. Hipoalergiczna formuła sprawia, że produkt jest bezpieczny nawet dla skóry wrażliwej.
Maska nocna z ekstraktem Cica, która intensywnie nawilża i regeneruje skórę podczas snu. Jej formuła wspiera odbudowę bariery hydrolipidowej, łagodzi podrażnienia i redukuje zaczerwienienia, przywracając cerze zdrowy, naturalny blask.
Hydrożelowa maska stworzona z myślą o intensywnym nawilżeniu oraz regeneracji naturalnej bariery ochronnej skóry. Dzięki technologii Hydro Ceranol, maska dostarcza ceramidów, które wspomagają odbudowę warstwy hydrolipidowej, przywracając skórze zdrowy wygląd, miękkość i naturalny blask. Hipoalergiczna formuła sprawia, że produkt jest bezpieczny nawet dla skóry wrażliwej.
Hydrożelowa maska, która intensywnie nawilża skórę, wspomaga jej elastyczność, wzmacnia barierę ochronną i pomaga zwężać pory. Dzięki zawartości ultra-niskocząsteczkowego kolagenu, oligo-kwasu hialuronowego oraz trzech rodzajów probiotyków maska poprawia kondycję skóry, wygładza drobne linie oraz łagodzi zaczerwienienia. Hipoalergiczna formuła jest wolna od drażniących składników, dzięki czemu nadaje się również dla skóry wrażliwej.